Очистка воды для микроэлектроники

Водоподготовка – один из важных этапов производства микроэлектроники. Для изготовления полупроводниковой продукции используется сверхчистая вода. Даже небольшое содержание газов, взвесей, микроорганизмов негативно отражается на характеристиках микросхем, фотоэлектрических элементов. Поэтому вода для микроэлектроники проходит комплексную очистку.

Требования к воде, которая используется для производства микроэлектроники

Свойства воды, применяемой в производстве полупроводниковой продукции, должны соответствовать международным стандартам. Это касается общей минерализации, а также:

содержания органического углерода;
кислотности, щелочности;
содержания эндотоксинов или пирогенов;
количества железа, тяжелых металлов;
содержания органических примесей.

Вода для микроэлектроники должна соответствовать требованиям по удельному сопротивлению. От этого зависит производительность, стабильность работы полупроводниковой продукции.

Технологии очистки воды для производства микроэлектроники

Вода, применяемая для производства полупроводниковой продукции, проходит многоступенчатую очистку. Технологии для этого подбираются с учетом качества исходной воды, которое определяется путем проведения лабораторных исследований.

Астра-Феррум – Multi

Система очистки воды «Астра-Феррум» Multi - автоматическая многоступенчатая система очистки воды, включающая в себя предподготовку и реагентную обработку воды, аэрирование и деагазацию, системы обезжелезивания, умягчения, улучшения органолептических показателей воды и другие технологические модули по необходимости.

Чистит от:

Цена: от 324 000 руб.

Подробнее

Подготовка начинается с отделения механических примесей. Для этого используются сетчатые элементы с размером сечения от 90 до 100 мкм или фильтры с засыпками и разных материалов. При большом содержании кремния не рекомендуется использовать кварцевый песок. Для удаления коллоидных соединений, диоксида кремния используются реагенты.

Удаление хлора, умягчение, обессоливание

Свободный хлор удаляется с помощью фильтров с засыпкой из активированного угля. С помощью реагентов нейтрализуются такие примеси, как:

нефтепродукты;
железобактерии;
тяжелых металлов.

На этом этапе снижается мутность, устраняется неприятный запах. Реагенты подбираются на основе лабораторных исследований воды.

При необходимости в систему подготовки воды включается умягчение для удаления солей жесткости. pH корректируется путем добавления кислотных или щелочных реагентов. Тут важна точная дозировка.

Для обессоливания воды используется технология обратного осмоса. С ее помощью снижается содержание ионов и катионов. Обратноосмотические установки также эффективно задерживают микроорганизмы.

Установка обратноосмотическая Siberia Standart RO-250 4040-1 (чермет), SHIMGE, 3320

Siberia 250 RO-250 4040-1 – установка очистки воды обратного осмоса типа RO 250. Используется для снижения общей минерализации, содержания солей воды из водоемов и подземных источников.

Чистит от:

Цена: от 199 000 руб.

Подробнее

Установка обратноосмотическая Siberia Standart RO-500 4040-2 (чермет), SHIMGE, 3320

Водоочистная мембранная установка Siberia RO-500 4040-2 типа RO используется для подготовки воды из водоемов и подземных источников. Ее температура варьируется от -5⁰ до +40⁰C. Очистная установка снижает общую минерализацию, содержание солей.

Чистит от:

Цена: от 229 000 руб.

Подробнее

Установка обратноосмотическая Siberia Standart RO-500 4040-2 (чермет), SHIMGE, 3320

Чистит от:

Цена: от 229 000 руб.

Подробнее

Обеззараживание, деминерализация, правила хранения подготовленной воды

Важный этап подготовки воды для электроники – дезинфекция. В производстве микроэлектроники важна стерильность. Она обеспечивается путем добавления хлора, с помощью озонирования, обработки ультрафиолетом.

Для деминерализации также используются установки обратного осмоса. Они применяются на завершающем этапе очистки воды для снижения нагрузки на мембранную систему. С их помощью удаляется магний, кальций, хлориды.

Вода, прошедшая подготовку, хранится в емкостях, которые комплектуются дышащими фильтрами. Они нужны для предупреждения попадания пыли, бактерий. Также они оснащаются системой подачи азота или ультрафиолетовыми лампами. Важно обустроить слив, который обеспечит полное удаление воды из резервуара для проведения санитарной обработки, регламентных работ.

При проектировании систем подготовки воды для производства микроэлектроники учитывается необходимость поддержания постоянной температуры. Погрешность не должна превышать 1⁰C в большую или меньшую сторону.

Эффективная очистка воды, деионизация, доведение до международных нормативов, – гарантия производства надежной, технологичной полупроводниковой продукции.

Астра-Феррум – Special

Данные установки предназначены для решения специальных задач по извлечению из воды бора, фтора, стронция лития, альфа-радиации и доведения воды до норм СанПиН 2.1.4.1116-02 "Питьевая вода".

Чистит от: